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Reinraumzubehör

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Austattung für metallfreie Arbeitsplätze

Quick Dump Rinse
(QDR)-Becken

Quick Dump Rinse (QDR)-Becken

Nach der chemischen Behandlung von Halbleiterplatten für Reinigungs-, Ätz- oder Abbeizanwendungen ist es wichtig, sämtliche Komponenten richtig abzuspülen, um chemische Rückstände zu vermeiden. Einmal aus dem chemischen Bad entfernt, ist die Halbleiterplattenoberfläche immer noch mit Chemikalien bedeckt, welche zu einem kontinuierlichen chemischen Prozess außerhalb des Bades führen. Dieser chemische Prozess kann zu Überätzungen oder Ablösungen führen, die einen Produktionsausfall zu Folge haben.
Um diese Probleme zu vermeiden, ist es notwendig, die Halbleiterplatten mit Dl-Wasser unter Verwendung einer Schnelldump-Spülung oder einer Abschreckung richtig zu spülen.

Das Quick Dump Rinse (QDR)-Becken ist modular aufgebaut. Daher ist es möglich, das QDR-Becken in zwei separate Komponenten zu zerlegen und aus der Anlage zu entnehmen. Zusätzlichen Komfort bietet das Sprüh- und Ablasssystem, welches konzipiert ist, dass es gemeinsam mit dem Prozessbecken entnommen, gereinigt oder auch ausgewechselt werden kann.

Datenblatt Quick Dump Rinse (QDR)-Becken pdf download

Metallfreie Möbel

Abluftwäscher

MK Abluftwäscher
  • Sprüh-Absorptionsanlage zur Reinigung von Rauch- und Prozessgasen
  • Kompaktbauweise
  • Vollständig aus hochmodernen thermoplastischen Kunststoffen gefertigt
  • Horizontale Luftdurchführung
  • Hohe Bewässerungsrate mit idealer Luftanströmgeschwindigkeit
  • Tropfenabscheider und Filtersysteme verhindern den Austritt der Waschflüssigkeit
  • Als Waschflüssigkeit wird Wasser verwendet
  • Hohe Betriebssicherheit
  • Optimale Abstimmung mit unseren metallfreien Arbeitsstationen
    Individuelle Steuerungsmöglichkeit

Datenblatt Abluftwäscher pdf download

Ultraschallreinigungsgerät

  • Schwingwanne: Innenabmessungen Ø 214 mm, 103 mm hoch
  • Schutzgrad: IP 64
  • Zeitgeber: 1 – 15 min und ∞, Regelung durch Software

Datenblatt Ultraschallreinigungsgerät pdf download

Heizplatten

  • Vollständig mit PTFE Material gekapselt
  • Vollständig gekapselte Steuerungsleitung
  • 20 Jahre erprobte Beschichtung für härteste Umgebungs- und Anwendungsbedingungen
  • Geringes Gewicht
  • Einzigartige gleichmäßige Wärmeverteilung
  • Kurze Aufheizzeit bei geringem Energieverbrauch
  • Sicherer Langzeitbetrieb durch Zeit- und Temperaturführung von zwei unabhängig voneinander arbeitenden Sicherheitseinrichtungen
  • Steckanschluss IP67

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Thermische Aufschlusseinheit

TAE MK 280
  • Speziell für den Einsatz in der Ultraspurenanalytik zum
    thermischen Aufschließen von Proben entwickelt
  • Vollständig mit PTFE Material gekapselt
  • Vollständig gekapselte Steuerungsleitung
  • 20 Jahre erprobte Beschichtung für härteste Umgebungs- und Anwendungsbedingungen
  • Geringes Gewicht
  • Einzigartige gleichmäßige Wärmeverteilung
  • Kurze Aufheizzeit bei geringem Energieverbrauch
  • Systemprogrammierte Steuerung für individuelle
    Probenbearbeitung
  • Sicherer Langzeitbetrieb durch Zeit- und Temperaturführung von
    zwei unabhängig voneinander arbeitenden Sicherheitseinrichtungen
  • Steckanschluss IP67 für einfache Entnahme aus dem
    Probenaufschlussraum

Datenblatt TAE pdf download